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第106章 布局闪存六千一百字求订阅求月票（第4页）

另外，还有四条生产线正在建设当中！”

无疆集团太给力了，旗下产品卖的那么好，对芯片的需求量与日俱增。

无疆微电子公司为了满足无疆集团的用“芯”

需求，就只能疯狂扩产，增加晶圆生产线！

此时，国内半导体产业链都因为无疆微电子公司的疯狂扩产而获得各种生产设备以及原材料的订单，这些企业纷纷赚到钱了，不仅没有衰落，而且还有余钱进行研发。

无疆微电子公司斥巨资正在开发更为先进的光刻机，建立8寸晶圆厂，这个事情也跟他们这些生产链上的配套公司沟通过了，并且密切联系，协同研发，若是他们自己不上进，不开发更好的技术产品，今后怕是很难再获得无疆微电子公司的订单。

可以说，国内很多家半导体公司是被无疆微电子公司逼着向前发展。

赚到的钱，不能花天酒地，而是将其用于研发上面，这简直是痛并快乐着。

赵烨参观完晶圆厂之后，随后来到光刻机实验室。

黄昆带着秦国刚、王守武、王圩等数名技术大佬迎了过来。

“几位院士，你们好，在这里工作还顺心吗？”

赵烨一脸关切的问道，语气简直要多真诚，有多真诚。

这些院士大佬们简直就是他的心肝宝贝。

国内光刻机技术能不能快速突破，就得看他们的了。

黄昆老院士笑着说道：“当然顺心，国内没有哪个地方比这里还好，什么也不要操心，一切都有专人伺候，我们只管研发就好了！”

赵烨点点头：“你们工作顺心就好，对了，黄院士，新一代光刻机的开发进度到什么程度了？”

黄昆院士笑了笑，回答道：“进度还不错，预计明年或许能够开发出新一代的光刻机，直追日本佳能和尼康的光刻机。”

顿了顿，黄昆院士侃侃而谈，仔细地为赵烨介绍道：“我们现在采用193nmArF激光光源，已经实现了光刻过程中，掩模和硅片的同步移动，并且采用了缩小投影镜头，缩小比例达到5：1，有效提升了掩模的使用效率和曝光精度，从而将芯片的制程和生产效率提升了一个台阶！”

赵烨对当下的光刻机以及芯片生产工艺也算比较了解，此刻听完黄昆院士的话，不由心头大喜。

干式光刻机到达193nm，就差不多到头了，想要再次突破，难度极大。

前世，光刻机技术在20年内，几乎没有什么进步，都被困在这里，光学光刻技术似乎已经到了分辨率的“极限”

。

后来直到林本坚提出“浸润式光刻”

这一具有颠覆性的技术之后，光刻机技术这才得到突破193nm。

无疆微电子公司只要开发出193nm光刻机，就跟佳能和尼康的光刻机技术相差不大了，反正之后20年，对方怎么也进步不了了。

反倒是无疆微电子公司研发浸润式光刻技术，实现弯道超车！

赵烨对众人鼓励一番，心情愉快地离开了。

……

日本。

雷克斯·艾登做好充分的调查准备之后，便开展行动。

在正式接触东芝公司之前，他先悄悄约NAND闪存的发明者舛冈富士雄。

晚上7点钟，舛冈富士雄准时赴约。

雷克斯·艾登微笑着看着对方，开口道：“舛冈富士雄先生你好，我先做一下自我介绍，我叫雷斯克·艾登，目前正在为中国无疆集团工作。

这次约你见面，是想了解一下，你有没有跳槽的打算。

无疆集团非常看好你开发的NAND闪存技术。