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团队（第2页）

他比沈默预想的要老。

头发花白了大半，眼角的皱纹很深，背微微有些驼，穿着一件洗得发白的深蓝色夹克，手里拎着一个旧旧的电脑包。

但当他坐下来，开始说话的时候，那种疲惫的外表就被一种从骨子里透出来的专业和执拗覆盖了。

“沈总，我看过你的论文预印本。

五百八十度的生长温度，脉冲偏压等离子体辅助，IDIG零点零五八。

这些数据如果是真的，你做的东西比我过去十二年做的任何一件事都重要。

我是来确认这些数据的真实性的。”

他开门见山，语气像在跟同行讨论课题。

沈默把实验记录本打开，翻到脉冲偏压PECVD的那一页，推到他面前。

陈知行低下头，一页一页地翻。

他的手指很稳，目光很沉，每一页都看得很仔细，不时停下来问一个问题——衬底的预处理工艺是什么？碳源的比例为什么选七比三？脉冲占空比为什么是百分之三而不是更高？温度均匀性怎么保证的？重复实验做了多少次？失败的那几次是什么原因？

沈默一个一个回答，像在论文答辩。

但比论文答辩更紧张，因为论文答辩的评委是来找茬的，而陈知行是来验证的——他要用自己的专业知识，一寸一寸地确认沈默的数据不是假的、不是运气、不是不可重复的昙花一现。

半小时后，陈知行合上实验记录本，抬起头。

“数据是真的。”

他说，“工艺路线可行。

但你们的产业化方案里有一个漏洞——一平方米衬底的温度均匀性不够，你们现有的设备做不到。

这是CVD设备放大过程中最常见也最难解决的问题。”

沈默没有反驳，因为陈知行说的是事实。

“你有解决方案吗？”

“有。”

陈知行从电脑包里拿出一个U盘，插进电脑，打开一个文件。

“这是我的设计方案：一种基于多区独立控温的大面积CVD反应腔体。

通过把加热区分成八个独立控温区域，每个区域的温度可以单独调节，补偿边缘的热损失，实现衬底表面的温度均匀性控制在正负五度以内。”

沈默盯着屏幕上的设计图，瞳孔微缩。

这个设计和系统推演给他的方案高度相似，细节上甚至更优——系统推演没有给出分区控温的精确分区数，而陈知行直接给出了八区和正负五度的具体参数。

“你什么时候做的这个设计？”

“三年前，我还在上一家公司的时候。

当时我们想自己做石墨烯，但项目被砍了。”

陈知行的声音平静得像在讲别人的故事，“设计稿一直存在我电脑里，等了三年。

今天终于等到一个能用上它的人。”

沈默沉默了片刻。

“陈总，你什么时候能入职？”

陈知行笑了。

“现在。”

三