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第767章 科学家们的呐喊 前沿不当人了是吧（第10页）

这样既可以占优先权，又可以不公开，通过一次又一次新的申请更新优先权延长专利保护期。

算是某种基操。

有意思的是，胜遇实验室的研究并不怎么花钱，除了技术储备和基础研发环境支出外，最大头的支出居然是研发人员的薪资……

听完汇报，脑子里也开完小差的方总想了想，道：“下午召开一次联合会议，需要有长光所等一些合作单位的参与。”

“我来协调。”

行政主管连道。

“我会帮忙。”

王院士跟着说道。

“……”

午后两点，长光所副所长张学君等人，大部分合作的科研单位代表都来到了梼杌实验室。

方年坐在居中位置。

神态轻松自如。

令人不敢忽视。

张学君也想起了两年多前的那次会面，实在没想到再见面时会是这样的光景。

方年目光扫过与会众人：“各位下午好，我是方年，初次见面，请多关照。”

“方总好。”

“方总太客气了。”

“……”

简单的寒暄过后，方年直截了当道：“恕我冒昧，为了不耽误大家更多的时间，我就开门见山了。”

“庐州前沿正在建设一条12寸晶圆测试线，为了配合这条测试线，梼杌这边将全面进军euv光刻研究，希望大家能给予必要支持。”

此话一出，众人皆愣。

包括梼杌的王院士。

“euv？”

张学君挑了下眉，斟酌着说道，“方总，冒昧问一句，你好像对极紫外情有独钟？”

“理论上只有最尖端光刻需要用到极紫外光刻，duv（深紫外）借住浸入式方案理论上可以做到7n光刻，似乎没必要全面进军euv？”

“……”

在座众人都是懂行人士，纷纷发表了各自的看法。

比如duv技术积累等等问题。

毕竟梼杌实验室名字里的‘半导体设备’五个字有85是针对：

集成电路前道制造光刻机。

光刻机其实是个泛称，内里可细分为前道制造、后道封装、应用于tft（薄膜晶体管）的光刻、应用于中小基底先进光刻等的光刻机。

一般大众认知范围内的光刻机是集成电路前道制造光刻机……

听着大家的不同意见，方年微微一笑：“duv不是有各位在努力吗？”

“前沿不能白叫前沿这个名字，而且euv这个领域基本上属于赢家通吃，很符合前沿的目标。”

王院士立马道：“可是asl的euv实验机去年就运到了台积电使用。”

“……”

“这个领域需要很庞大的投入。”

“……”

方年当然知道。