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第806章 不配拥有名字的大CPU求订（第9页）

庐州前沿的数据中心更重要，其实替代一千台服务器都比较极限，两千台更是很激进。

但时间不等人，鬼知道还要迭代多少次才有资格摆上台面。

末了，方年强调道：“明天你一早就去庐州，我需要一个高效的团队，不是要一帮谨小慎微没有创造力，没有想象力的工程师！

一句话，我希望8月份之前听到大cpu项目组敢用规划的名字！

而不是现在这样，一块连名字都不配拥有的cpu！”

“明白！”

温叶认真道。

然后她就听到了方年的小声咕哝。

“前沿还不是很强壮，就有这种命令不出办公室的意思，唉……”

“基础科学这方面限制太多，又太落后，必要的保密措施又是必要的，真是自己给自己设置了障碍。”

“唉……”

温叶心里沉沉的。

她这个前沿ceo也有很多没做到位的地方。

想着，温叶轻轻咬牙……

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ps：哇，今天可以早点说晚安~，！

晃手：“都说完吧。”

温叶轻轻点头，继续往下说：“上周五，贵阳数据中心一期土建工程通过验收，已经可以开始服务器机组的安装调试工作。”

“……”

“上周四神龙211流片通过，神龙511流片通过，性能不达标，在调整后将进行第二次流片……”

“……”

“晶圆测试线月初正式启动了试生产，光刻机的良率、稳定性等十分不理想，需要进行一定的调整；

据汇报，有望在下月进行65纳米制程试生产。”

似乎知道方年会有疑惑，说到这里，温叶特地补充了几句：“duv浸入式光刻实际上一直可以支持到7纳米制程的光刻；

根据晶圆试验线的负责教授解释：

传统国际半导体技术蓝图定义光刻制程技术节点的是最小金属间距。

又根据一个瑞利公式：cd=k1x（λna），降低波长λ，提高镜头的数值孔径na，降低综合因素k1，即可不断演进光刻制程。

duv激光光源从90年代末至今就一直是停滞在193n波长；

不过有人提出了新的方案，一个工程上很简单的办法，在晶圆光刻胶上加1厚的水，水可以把193n的光波长折射成134n，再做到半周期65n；

总之……

晶圆实验室的教授很有信心保证能在较短时间内突破至65纳米光刻，之后可能会漫长一点，但也不会是太久远的事情。”

一口气照本宣科的说完，温叶并未多停顿，继续解释。

“虽然梼杌实验室牵头的euv光刻研发进展十分缓慢，但因为从欧美国家收购的各类技术等等；

对duv光刻机的研发推动工作很有帮助。”

“……”

最后，温叶总结：“截止目前，就是这些项目有确切成果。”

“小谷负责的胜遇4g组网方案实际实验，还需要一点点时间，应该是在四月底能完成。”

听温叶完全说完后，方年稍作沉吟：“也就是说，梼杌一点都不重视的duv光刻进展神速，去年最后一个季度投入了70亿，今年第一季度又投入十数亿的euv进展龟速？”