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第一千零九十四章 两条路线（第1页）

那个时候，客户们每天排队堵在n康门口等待最新产品下线的热情，就与十几年之后，客户们眼巴巴等着a斯麦euvgkj交货的迫切并无二致。

但谁也不曾想，二十年时间不到，风光对调，作为米国忠实盟友的a斯麦就一跃翻身，执掌起代工厂的生杀大权，更成为大国博弈之间的关键杀招。

a斯麦曾经说过，“如果我们交不出euv，摩尔定律就会从此停止”

，

但这真的只是一个盛产风车、郁金香国家，凭借一个三十多人的创始团队，就可以诞生的一个制造业奇迹，半导体明珠吗？

其实，从那台等了整整三年还未曾交付的euv背后，我们不难看出背后真正的赢家。

在灰姑娘翻身做王后的背后，绵延十多年的，是封锁与反抗，也是复仇与合作。

从市场角度出发，作为另一个时空，上世纪九十年代最大的gkj巨头-n康的衰落，就始于那一回157n光源干刻法与193n光源湿刻法的技术之争。

背后起主导作用的，是由y特尔创始人之一戈登·摩尔（gordonoore）提出的的一个叫做摩尔定律的产业规范：

集成电路上可容纳的元器件的数量每隔18至24个月就会增加一倍（相应的芯片制程也会不断缩小）。

而每一次制程前进，也会带来一次芯片性能性能的飞跃。

这是对芯片设计的要求，但同时也在要求gkj的必须领先设计环节一步，交付出相应规格的设备来。

几十纳米时代的gkj，门槛其实并不高，三十多人的a斯麦能轻易入局这个行业，连设计芯片的y特尔也可以自己做出几台尝尝鲜，难度左右不过是把买回来的高价零件拼拼凑凑，堆出一台难度比起照相机高深些许的设备而已。

而n康与他们不同的是，对手靠的是产业链一起发力，而n康的零件技术全部自己搞定，就像如今的p果，芯片、操作系统大包大揽，随便拿出几块镜片，虽不见得能吊打蔡司，但应付当时的芯片制程却是绰绰有余的。

但造芯片也好，造gkj也好，关卡等级其实是指数级别增加的，上世纪90年代，gkj的光源波长被卡死在193n，成为了摆在全产业面前的一道难关。

雕刻东西，花样要精细，刀尖就得锋利，但是要如何把193n的光波再“磨”

细呢？大半个半导体业界都参与进来，分成两队人马跃跃欲试：

n康等公司主张用在前代技术的基础上，采用157n的f2激光，走稳健道路。

而新生的euvllc联盟则押注更激进的极紫外技术，用仅有十几纳米的极紫外光，刻十纳米以下的芯片制程。

但技术都已经走到这地步，不管哪一种方法，做起来其实都不容易。

这时候tjd一个叫做林本坚的鬼才工程师出现了：

降低光的波长，光源出发是根本方法，但高中学生都知道，水会影响光的折射率——在透镜和硅片之间加一层水，原有的193n激光经过折射，不就直接越过了157n的天堑，降低到132n了吗！

林本坚拿着这项“沉浸式光刻”