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第438章 光刻机项目 另辟蹊径（第2页）

原本，再过几年，漂亮国的一个实验室研发出一套名为ZyvexLitho1的光刻系统，基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL（E-Beaithography）电子束光刻方式，制造出了0.7n宽的芯片，只是没法实现批量生产，或者成本高过。

沐阳相信，如果是技术成熟的电子束光刻机，线宽比0.7n小。

他在系统商店普通货架上默念搜索「电子束光刻机」，很快，搜索出几款相关技术。

沐阳选择适合自己公司的一款技术：EBL01

技术参数：

1．最小线宽：小于1nbr>

2．加速电压：5—500kV

3．电子束直径：小于t;

4．套刻精度：1nan＋0.20）

5．拼接精度：1nan＋0.20）

6．加工晶圆尺寸：4—18英寸

7．描电镜分辨率：小于t;

主要特点：

1．采用超高亮度和超高稳定性的TFE电子枪；

2．出色的电子束偏转控制技术；

3．采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率可达0.0002n

4．采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0.002ad；

5．应用领域广泛，如

:

微纳器件加工，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻，图形线宽和图形位移测量等。

.....

需要成就点：300点！

....

沐阳大概看了下简介，光从技术参数上就看出它的先进性。

还有更加先进的光刻机，但是，以星海集团目前的条件，买了也造不出来，而且需要的成就点非常多。

这个EBL01号称可以制造1n下的芯片，但量产成本会比较高。

因此，当前的情况，星海集团可以从7n片工艺开始，可以保证在2018年之前保持在世界第一地位。