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第九十六章 大佬来了（第2页）

但按照他之前的经验，如果是强相关的知识，对“降价”

的加成还是挺大的，不应该一点反应都没有。

哪怕有0.001，也算是正常情况吧。

或者……是需要应用？

想到这里，陈念思索了片刻，重新拿起笔开始在纸上写字。

“单晶炉技术要点1：由于杂质可导致孪晶、嵌晶、孔洞、夹杂物、氢致缺陷、COP等缺陷，所以单晶炉内部清洁极为重要，需要保证主炉室、隔离阀、副炉室气密性，在目前技术条件下，可以选择用过氟橡胶进行真空密封……”

“单晶炉技术要点2：单晶生长过程中如果热场温度梯度过大，晶体中产生较大热应力，则会导致晶体内部发生位错缺陷，并使其增殖。

为避免此类情况，单晶炉可以选用双筒法兰结构，通水冷却，并最好使用隔水条，保证冷却均匀……”

“单晶炉技术要点3：微缺陷发生的原因是……”

陈念一边思考一边写，这些信息可就不是系统解析来的了，而是他根据之前的学习，包括在制造新材料时掌握的经验一点点推出来的。

其中关于真空密封的部分属于老生常谈，但双筒法兰结构+隔水条冷却，则是他自己考虑后认为最合适的处理方式。

也就是说，这是他的原创设计。

但当然，这样的设计只是一个想法，或者说一个方向，远远达不到能画出结构图输出到应用阶段的要求。

陈念也不打算这么去做，因为复杂的数值推演、数值调整实在是太花时间了，还不如直接解析的费效比高。

省下来的时间用来学习和实验，带来的源点数量收益反而会更高。

就是不知道只做到这一步的话能不能降低一点源点需求……哪怕0.01点也好啊。

这么想着，陈念打开了系统界面，重新扫描单晶炉，先要看看最新的源点消耗。

而当那个数字呈现在他面前时，他几乎乐得从椅子上跳了起来。

原本2.9的源点数量需求，已经变成了2.72！

也就是说，自己写出来的一条技术要点，平均每一条有用的，就降低了0.06点的源点需求！

这要是能把自己掌握的所有知识点都推理到应用上，岂不是有机会直接把源点消耗干成0？

赶紧上手！

陈念立刻起身，从书架上拿下来两本书。

一本《半导体硅材料基础》。

一本《机械制造技术基础》。

他一边从硅材料的教材中汲取自己所需要的理论，一边尝试把自己的想法付诸实际、用可制造的设备去实现。

这样的推理当然是极为粗陋、极不准确、甚至有可能是错误的。

但是，拦不住他有挂啊！

一个应用设计有没有用，看一眼源点消耗数量有没有变化就一目了然了！

花了不到二十分钟，他就推理出了第四条有用的设计方向，又带来了0.05个源点的“降价”

。

好家伙，还真有戏啊。

陈念越写越兴奋，不知不觉间，外面的天居然都已经亮了起来。